Acmewin International Corp. 宣布，经过与半导体研究伙伴的长期技术合作，Aibo II Dry Asher 已完成一项前段工艺验证里程碑。
本次工作针对特定晶圆结构与工艺条件，评估等离子光刻胶去除工艺。
该里程碑支持 Aibo II 平台持续开展半导体工艺应用的工程评估。结果仍取决于晶圆结构、材料堆叠、设备配置与配方验证。
Acmewin 将通过受控的技术合作与具体项目评估，继续开展产品及工艺开发。
Acmewin International Corp.
Acmewin International Corp. 宣布，经过与半导体研究伙伴的长期技术合作，Aibo II Dry Asher 已完成一项前段工艺验证里程碑。
本次工作针对特定晶圆结构与工艺条件，评估等离子光刻胶去除工艺。
该里程碑支持 Aibo II 平台持续开展半导体工艺应用的工程评估。结果仍取决于晶圆结构、材料堆叠、设备配置与配方验证。
Acmewin 将通过受控的技术合作与具体项目评估，继续开展产品及工艺开发。