Acmewin International Corp.

瀚鈞創新

ACMEWIN 研發

Acmewin 創新

Acmewin 開發 RF、壓力控制、真空、設備整合以及晶圓搬送解決方案,用於半導體設備應用。

Acmewin RF 功率分配器產品圖片

創新概覽

Acmewin 自主開發 RF 功率分配、腔體壓力控制、RF 匹配、真空運動與晶圓搬送整合解決方案。

RF 技術

RF 技術

RF 功率分配和匹配相關設備的開發。

壓力和真空控制

壓力和真空控制

壓力控制器、閥門和真空系統的整合支援。

設備整合

設備整合

提供替換、升級與平台整合的工程評估。

晶圓搬送與冷卻

晶圓搬送與冷卻

Loadlock 側冷卻與晶圓搬送架構開發。

產品與解決方案

Acmewin 2000 W RF Power Splitter 產品圖片
RF 功率分配

Acmewin 2000 W RF Power Splitter

為支援特定多負載或雙負載電漿系統配置而開發的 RF 功率分配解決方案。

相容性: 特定 Aspen II ICP 系統配置

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AIC1201 Pressure Controller 產品圖片
壓力控制

AIC1201 Pressure Controller

為半導體真空系統與製程腔體整合開發的壓力控制解決方案。

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AIC-A2 RF Matching Network representative 產品圖片
RF 匹配

AIC-A2 RF Matching Network

適用於電漿製程設備與 RF 功率傳輸應用的可配置 RF 匹配解決方案。

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MDV-018 Throttle Valve Replacement 產品圖片
真空控制

MDV-018 Throttle Valve Replacement

為舊型設備升級與壓力控制整合設計的真空節流閥替換解決方案。

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停產零件替代代表圖片
生命週期支援

停產零件替代

針對停產的半導體設備零組件與組件進行替換與採購評估。

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專利與創新

專利證書以公開摘要呈現;公開頁不提供完整解析度證書、完整文件內容或內部檔案。

專利/創新

RF 功率分配技術

RF / 電漿技術

Acmewin 開發適用於電漿設備應用的 RF 功率傳輸及分配解決方案。

專利/創新

熱回收晶圓處理設備

節能/晶圓處理

Acmewin 開發具有熱回收設計的節能晶圓處理設備概念。

專利/創新

自主電漿設備創新

乾式去光阻設備平台

Acmewin 持續投資於乾式去光阻設備平台技術、製程控制及半導體設備整合。

Acmewin 專利創新證書圖片縮略版
專利/創新

晶圓冷卻搬送平台

平台整合

晶圓搬送平台將晶圓冷卻整合至 Loadlock 側搬送架構,以減少機械手臂額外移動並支援更高的平行製程能力。

專利類型: 中國實用新型專利

專利號碼: ZL 2023 2 0662780.0

公告號: CN 219370997 U

授予日期: 2023-07-18

專利所有權人: Acmewin International Corp.

晶圓冷卻平台特色

Aibo II 晶圓冷卻平台設計示意圖
專利支援的設計

晶圓冷卻搬送平台

Acmewin 將晶圓冷卻整合至 Loadlock 側搬送架構,以減少機械手臂額外移動並支援三製程腔體平台開發。

  • Loadlock 整合冷卻功能
  • 晶圓卡匣載台上方的冷卻層
  • 減少額外晶圓搬送路徑
  • 第三個製程腔體整合
  • 專利支援的設計
查看 Aibo II 的平台設計

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提供工程評估的設備型號、製程需求、現有元件配置以及技術目標