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Aibo I Dry Asher

Aibo I Dry Asher

适用于指定旧半导体设备的紧凑型干式去胶平台与现代化方案。

Aibo I Dry Asher 已安装系统侧视图

产品概述

Aibo I Dry Asher 适用于指定的半导体光刻胶去除、等离子清洗与旧设备现代化需求。控制、RF、真空及软件升级项目须根据现有设备配置进行评估。

  • 紧凑型系统架构
  • 4 英寸至 8 英寸指定应用评估
  • RF 与等离子升级方案
  • Windows HMI 现代化
  • 设备全生命周期支持

平台功能

等离子工艺

根据工艺与腔体配置支持光刻胶去除及指定等离子清洗应用。

RF 功率系统升级

RF 发生器与匹配网络升级方案须根据已安装系统及工艺要求进行评估。

真空与压力控制

真空阀、压力控制与腔体集成方案须根据现有设备状况进行评估。

设备现代化改造

控制系统、HMI、数据监控与停产零部件替代方案,可纳入设备全生命周期升级评估。

Windows 控制系统升级

Aibo I 现代化可支持从旧操作流程迁移至 Windows 控制界面,重点涵盖操作员功能与系统现代化方案。

Aibo I 控制系统 HMI 操作面板。

HMI 操作面板

控制界面

供操作员查看设备状态与执行操作流程的界面。

Aibo I 控制界面主屏幕。

主控制画面

GUI

用于掌握操作状态与设备监控的主要界面。

Aibo I 配方编辑器屏幕。

配方编辑器

GUI

用于受控工艺设置的配方管理界面。

Aibo I 数据历史图表界面

数据历史记录

GUI

用于查看工艺与设备趋势及历史数据的画面。

本网站不公开详细连接命令、接口参数、文件位置、访问凭证、工艺配方或非公开控制细节。

工艺应用

Aibo I 的应用适用性须根据晶圆尺寸、腔体配置、RF 系统、工艺要求及设备状况进行评估。

  • 光刻胶去除
  • 去残胶
  • 等离子清洗
  • 指定旧工艺应用

查看工艺应用

设备画廊

图库展示 Aibo I 设备与控制界面。

升级效益

改进操作界面

现代化 HMI 画面可提高操作信息可视性,并减少对旧工作流程的依赖。

配方管理

配方查看与管理功能须根据已安装设备的工艺要求进行评估。

工艺数据可视性

数据历史与趋势画面可支持设备查看及维护规划。

报警与历史记录查看

报警与事件历史可支持故障排查及操作查看。

停产零部件替换

可评估指定的停产控制与接口零部件,以进行替换或现代化。

长期设备支持

全生命周期支持可协助客户评估可行的升级与维护方案。

Z 轴闭环反馈方案须根据已安装的机械臂配置与项目要求进行评估。

相关产品/解决方案

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请提供现有设备型号、晶圆尺寸、工艺应用、当前控制系统与升级目标,以进行工程评估。