Aibo Dry Asher 系列
Acmewin 提供 Aibo Dry Asher 平台，涵蓋精簡型舊有設備升級、4 吋至 8 吋多製程應用，以及 12 吋概念系統開發。
系列概述
Aibo Dry Asher 系列涵蓋從精簡型設備升級、多腔體量產平台到 12 吋概念系統的半導體電漿製程需求。
Aibo I
精簡型平台與舊有設備升級方案。
Aibo II
支援多製程應用的 4 吋至 8 吋乾式去光阻設備平台。
Aibo III
12 吋概念三模組平台。
Aibo Dry Asher 設備平台
各 Aibo 平台分別對應不同的設備與製程需求。最終配置應依晶圓尺寸、製程應用、產能目標與整合需求進行評估。
精簡型／升級
Aibo I Dry Asher
適用於指定舊有半導體設備的精簡型乾式去光阻平台與升級方案。
- 小型平台
- 4 吋至 8 吋配置評估
- RF／電漿升級方案
- Windows 控制系統升級
- 設備生命週期支援
量產平台
Aibo II Dry Asher
多應用乾式去光阻設備平台，支援光阻去除、去殘膠、Lite Etch 和電漿清潔應用。
- 支援 4、5、6 與 8 吋晶圓
- 單腔／雙腔／三腔
- ICP 13.56 MHz
- 最大 RF 功率：最高 2000 W
- 溫度：20–260°C
12 吋概念平台
Aibo III Dry Asher
整合 EFEM、FOUP、Load Lock、傳送腔體與三製程模組的 12 吋概念型乾式去光阻設備平台。
- 12 吋晶圓概念平台
- 三製程模組概念
- EFEM / FOUP
- Load Lock / 傳送腔體
- ICP 13.56 MHz
Conceptual Design / 3D Layout Rendering
查看產品平台比較
本比較表提供一般平台選擇參考；詳細配置與製程表現仍需依專案進行評估。
| 項目 | Aibo I | Aibo II | Aibo III |
|---|---|---|---|
| 平台定位 | 精簡型／升級平台 | 多應用生產平台 | 12 吋概念平台 |
| 晶圓尺寸 | 4 吋至 8 吋配置評估 | 4″, 5″, 6″, 8″ | 12 吋概念平台 |
| 廠房配置 | 依專案進行配置評估 | 單腔／雙腔／三腔 | 三製程模組概念 |
| 主要製程應用 | 光阻去除／指定舊有設備應用 | 光阻去除 / 去殘膠 / Lite Etch / 電漿清潔 | 12 吋製程平台概念 |
| 技術定位 | 升級與生命週期延長 | 可配置量產平台 | 概念設計／3D 配置示意圖 |
| 開發狀態 | 可供評估／升級方案 | 可用 | Conceptual Design |
應用指南
需要精簡型舊有設備升級方案嗎？
可針對指定舊有設備的現代化與生命週期延長專案評估 Aibo I。
需要支援 4 吋至 8 吋晶圓的多製程平台嗎？
可針對光阻去除、去殘膠、Lite Etch 與電漿清潔應用評估 Aibo II。
需要 12 吋概念平台嗎？
可將 Aibo III 作為 12 吋乾式去光阻設備專案的概念平台方向進行評估。
最終平台選擇取決於晶圓尺寸、製程類型、產能需求、腔體配置及設備整合需求。
相關技術
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